Sposób otrzymywania kompozytu magnetycznego dla układów retencyjnych w medycynie odtwórczej

OPIS

Sposób otrzymywania kompozytu magnetycznego dla układów retencyjnych w medycynie odtwórczej polega na tym, że proszek magnetyczny o uziarnieniu od 100 do 200 µm poddaje się trawieniu 5% kwasem cytrynowym albo 5% kwasem szczawiowym przez 3 do 5 minut w temperaturze 20°C. Następnie do 97% wagowych proszku magnetycznego dodaje się 3% wagowe polimetakrylanu metylu w postaci proszku utwardzonego płynnym monomerem w postaci metylometakrylanu, a uzyskaną mieszaninę homogenizuje się, przy czym stosunek wagowy polimeru w postaci proszku do płynnego monomeru wynosi od 1:1 do 3:1, uzyskany wsad umieszcza się w formie i poddaje prasowaniu pod ciśnieniem od 20 do 50 barów, a wypraskę polimeryzuje się w kąpieli wodnej w temperaturze od 20°C do 90°C w czasie od 3 do 20 minut. Z kolei utwardzoną wypraskę poddaje się magnesowaniu.

Tytuł Sposób otrzymywania kompozytu magnetycznego dla układów retencyjnych w medycynie odtwórczej
Numer zgłoszenia w UP P.410313
Numer prawa wyłącznego Pat.226565
Data zgłoszenia do UP 2014-11-28
Data udzielenia prawa 2017-03-03
Status w UP Prawo w mocy

ZDJĘCIA

Zobacz również

25.07.2024

Urządzenie do segregacji wiórów tytanowych

Urządzenie do segregacji wiórów tytanowych charakteryzuje się tym, że składa się z trzech niepołączonych ze sobą na stałe elementów urządzenia przesiewowego, bębna przesiewowego oraz wirówki, gdzie urządzenie przesiewowe ma sita (1) korzystnie z oczkami

24.07.2024

Wymienny wkład ochronny

Wymienny wkład ochronny charakteryzuje się tym, że składa się z połączonych ze sobą co najmniej trzech warstw ochronnych, gdzie warstwy zewnętrzne (1, 3) stanowi materiał tekstylny, a warstwę wewnętrzną (2) stanowi filtr HEPA z cząsteczkami nanosrebra (4)

dr hab. inż. Piotr Szota, prof. PCz

Wydział

Wydział Inżynierii Produkcji i Technologii Materiałów

Dyscyplina naukowa

Inżynieria materiałowa

Twórcy

  1. Klaudia Radomska
  2. Dorota Klimecka-Tatar
  3. Grażyna Pawłowska

Kategorie

Patenty

Copyright © Politechnika Częstochowska. Wszystkie prawa zastrzeżone.